SiO2 氧化層蝕刻膏
  特徵 BENEFITS
  P_258R，為一蝕刻SiO2(氧化層)之蝕刻材料，具有良好的印刷作業性、蝕刻性。

塗膜後，在室溫度下(25℃+/-3℃)針對SiO2層具有優異的蝕刻速率以及蝕刻均勻性， P_258R可用水洗清而且是成本低廉的光電材料。
   
  規格 SPECIFICATION
 
　型    號 　P_258R
　外    觀 　紅色
　作業條件

　SiO2 Layer 70 nm~120nm : 25℃@ 8min~12min

　(若SiO2膜厚較高，請增加膜厚)
　黏 度 　28,000 +/- 3,000 CPS
　儲存條件 　緊蓋容器,放置於15℃~23℃陰涼良好通風處並遠離熱源
　使用期限 　製造後3個月 (未開封)
　標準包裝 　500g / 1kg
　網目(mesh)# 　150 ,200 , 250 目
  Sio2
  Profile of after etched SiO2 layer-70nm
 instrument: TOHO profile machine/ Profile Curve_Zoom:35.7%,**All results depend on your test method, above data is for you reference only.
   
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